PVD, physical vapour deposition – nanášení odpařením z pevné fáze.PVD je technologie nanesení zhruba 2μm tenkých vrstev vynikajících fyzikálními i chemickými vlastnostmi. Nízkým třením, vysokou tvrdostí, odolností vůči otěru, vysoké teplotě (standardně 550°C, ale i 750°C a více), korozi i kyselinám.